垂直提拉機提拉鍍膜的過程
    垂直提拉機是一種廣泛應用于科研方面薄膜制備的方法。這樣可以在硅片或者圓柱形基片上鍍上均勻的薄膜。而在工業(yè)生產(chǎn)商，更多的則使用旋涂鍍膜法。提拉機由在國際上SOL-GEI技術(shù)**的CHEMAT TECHNOLOGY, INC設計完成。其主要關(guān)鍵元器件由美國進口，整機裝配由上海CHEMAT安裝調(diào)試完成。DipMaster 50提拉機是專門用于薄膜制備可行性研究的鍍膜工具，它采用了浸泡提拉的鍍膜技術(shù)。

    垂直提拉機就是把需要鍍膜的基片浸入溶液中，通過預先設置的速度，在一定的溫度和空氣環(huán)境下將基片慢慢提拉出來。

提拉過程可以分為5個步驟：

    1 浸入溶液：將基片以預先設定的速度（*好無任何抖動）侵入鍍膜溶液中

    2 浸泡：讓基片在溶液中浸泡一定的時間，然后準備提拉

    3 沉積：在提拉的過程中，薄膜會沉積在基片上。提拉的速度必須穩(wěn)定，避免任何抖動。提拉速度是膜層厚度一個重要的決定因素。（提拉速度越快，膜層厚度越厚）

    4 溢流：多余的溶液會在提拉的過程中從基片表面上流掉

    5 揮發(fā)：溶劑從溶液中揮發(fā)掉，在基片表面上形成薄膜。易揮發(fā)的溶劑如酒精。揮發(fā)過程在沉積和溢流的過程中會同時進行。